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                      • VG9000辉光放电质谱仪(GDMS)

                        辉光放电质?#36861;?#20316;为一?#27490;?#20307;样品直接分析技术 ,广泛应用于金属、半导体等材料的痕量和超痕量杂?#21490;?#26512;。随着制样方法和离子源装置的改进 ,GDMS同样?#26448;?#24456;好地应用于..

                        更多 2015-02-05

                      • 高纯金属纯度控制及提纯技术

                        由于金属材料中的杂质会影响半导体芯片等下游产品的导电性能,因此,溅射靶材对金属材料的纯度提出了相?#22791;?#30340;要求。公司通过自主研发和合作研发,已经具备生产高纯度的溅射..

                        更多 2015-02-05

                      • 岛津PDA-7000直读光谱仪

                        鸟津PDA-7000直读光谱仪?#35270;?#20110;钢铁、铝、镁、铜、锌、锡、钛等各?#27490;?#20307;金属的基体金属、合金中的组成元素、杂质微量元素的定量。应用于这些金属的冶炼工业和机?#23548;?.

                        更多 2015-02-05

                      • ZGRS-600-500真空热?#32929;?#32467;炉(HP)

                        ZGRS-600-500真空热?#32929;?#32467;炉可用于多种尺寸、各种陶瓷、合金烧结成型加工,以及银蜡焊接、真空压力扩散焊接等业务。该设备的有效温区是800x1000mm,..

                        更多 2015-02-05

                      • 晶粒晶向控制技术

                        晶粒的大小、排列方向直接决定了溅射成膜的均匀性和溅射速度,影响下游产品的品质和性能,因此,晶粒晶向的控制是溅射靶材生产过程中的核心技术。公司拥有金属材料塑性变形..

                        更多 2015-02-05

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